LOGO精拋皮拋光墊

產(chǎn)品特點:

v  材料的親水性:

   采用特殊冒泡聚氨基甲酸酯,對于拋光液的濡濕性(親水性）出眾.

v  基層纖維厚度的均一性:

   拋光壓力及拋光液的流動量均一

v  起泡的泡囊長度均一性:

   拋光壓力及拋光液的流動量均一以及拋光效率的均一性高

v  起泡的泡囊形狀均一性:

   拋光液的含量均一,因此拋光效率均一性高

v  起泡的泡囊的開口口徑均一性:

   拋光效率均一性高

v  基層材料采用微細(xì)纖維,厚度均一性及壓力均一性都優(yōu)越，拋光效率高

v  絨毛長度更長,良好的親水性和拋光液流動率,通過減薄工藝,更好保持拋光后的面型精度

v  兼容性好,藍(lán)寶石,水晶,晶片,鋁合金，不銹鋼等金屬五金的精拋光用

    CMP拋光布廣泛應(yīng)用于硅(Si)、鍺(Ge)、砷化鎵（GaAs）、藍(lán)寶石、水晶、金屬等粗拋以及精密拋光。日本的信越半導(dǎo)體（硅片）、京瓷（藍(lán)寶石）、并木（藍(lán)寶石）、俄羅斯MonoCrystal（藍(lán)寶石）、等多家公司都在使用該拋光布。