電鍍 設備、真空 設備

產品特點:

 該機型在多弧離子鍍膜機的基礎上配置圓柱靶或平面磁控靶，設備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點，同時也具備磁控濺射低溫、穩(wěn)定的優(yōu)點，適合鍍各種復合膜層，，可以做到多復合膜層一次性完成，膜層具有很高的結合力、硬度、耐磨系數，特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠家的IPG、IPS、刀具攙雜、復合膜層的制備。

技術參數:

▲真空室箱體：主要規(guī)格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根據客戶具體要求設計非標產品

▲夾具方式：采用公自轉行星式齒輪結構，工件速度在1-15轉/分鐘可調。

▲控制氣體方式：采用質量流量計控制，進氣穩(wěn)定，反映速度快。

▲靶:采用整體制造技術，嚴格縝密的磁場設計和磁場布局，濺射刻蝕均勻。

▲電源：配置有高頻直流電源（20KW、40KW等規(guī)格）、直流脈沖電源（電壓、占空比可調節(jié)），逆變電弧電源，并可根據實際的情況加裝離子源等輔助設施。

▲抽氣系統(tǒng)：采用國產品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據其真空室大小確定合理型號。也可以根據客戶的需要配備分子泵或者進口泵等。

▲抽真空參數：從大氣抽至5*10￣3Pa≤15min極限真空度8*10￣4Pa控制系統(tǒng)