此設(shè)備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相沉積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化，對(duì)基材、手機(jī)殼等塑料表面進(jìn)行金屬化、利用特定薄膜涂層實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品不導(dǎo)電和電磁屏蔽的作用，以滿(mǎn)足現(xiàn)行手機(jī)的高端電子產(chǎn)品制造行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)；

設(shè)備集中了等離子體處理，高端陰極磁控濺射、電阻蒸發(fā)鍍膜裝置，大裝載量轉(zhuǎn)架和自動(dòng)化控制技術(shù)，工作可靠、重復(fù)性一致性良好、沉積速率快，附著力好，膜層品質(zhì)細(xì)膩等，鍍制的薄膜致密硬度高，摩擦系數(shù)低，可保持原有工件表面光潔度，具有韌性好，不易破裂脫落。設(shè)備實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動(dòng)化控制。在基材表面利用真空鍍膜方法進(jìn)涂層，具有生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品合格率高、綠色環(huán)保等特點(diǎn)，主要適用于電腦、手機(jī)、高端工業(yè)（家用）電子電器、航空等領(lǐng)域，可鍍制復(fù)合金屬膜、合金膜、透明（半透明）膜、不導(dǎo)電膜、電磁屏蔽膜及特殊膜層等。

本公司可根據(jù)用戶(hù)要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶(hù)要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。