活性炭吸附法。由于活性炭吸附法安全有效，運(yùn)行簡(jiǎn)便，而受到廣泛應(yīng)用。但更換舊炭以及相應(yīng)的后續(xù)處理給企業(yè)增加了成本負(fù)擔(dān)，對(duì)于24小時(shí)不間斷運(yùn)行的化工制藥行業(yè)產(chǎn)生的廢氣適用性不高。

低溫等離子法。該方法在印刷廢氣、烤漆廢氣、注塑機(jī)廢氣治理中表現(xiàn)出得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)，但化工制藥行業(yè)產(chǎn)生的廢氣成分復(fù)雜，濃度偏高，對(duì)于安全等級(jí)要求較高的低溫等離子法對(duì)此望塵莫及。

催化燃燒法和生物處理法。該方法對(duì)VOCs濃度有更高的要求，而對(duì)于含硫的VOCs廢氣會(huì)使催化燃燒系統(tǒng)的催化劑中毒，從而失去應(yīng)有的凈化效果。

UV光解技術(shù)對(duì)硫醇、硫醚類(lèi)的VOCs廢氣具有一定凈化效果，但對(duì)含酮類(lèi)、酯類(lèi)成分復(fù)雜的高溫高濃度制藥廢氣需做預(yù)處理。單獨(dú)工藝處理達(dá)不到相應(yīng)排放標(biāo)準(zhǔn)，綠河復(fù)合式UV光解一體化設(shè)備，由多種工藝進(jìn)行多級(jí)處理，最終可以達(dá)到VOCs廢氣徹底凈化。

光催化凈化設(shè)備處理方式：

   紫外光解凈化法采用高能UV紫外線，在光解凈化設(shè)備內(nèi)，裂解氧化惡臭物質(zhì)分子鏈，改變物質(zhì)結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化為低分子無(wú)害物質(zhì)，其脫臭效率可99%，脫臭效果大大超過(guò)國(guó)家1993年頒布的惡臭物質(zhì)排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93），能處理氨、硫化氫、甲硫醇、甲硫醚、苯、苯乙烯、二硫化碳、三甲胺、***基二硫醚等高濃度混合氣體。

光催化凈化設(shè)備特點(diǎn)：

   1：高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC).硫化氫，氨氣，硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)98%以上。

   2：低濃度廢氣無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，高濃度廢氣可增加催化物質(zhì)層，價(jià)格在以上價(jià)格基礎(chǔ)增加15%。

   3：適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，運(yùn)行穩(wěn)定。

   4,無(wú)需預(yù)處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特殊的雨處理，如加溫，加濕等。

   5：操作簡(jiǎn)單方便，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。

光催化凈化設(shè)備處理范圍：

治理油煙粉塵領(lǐng)域：大型火力發(fā)電廠、卷煙廠、紡織廠、印刷廠、造紙廠、鋼鐵廠、水泥廠等。

治理廢氣、異味氣體領(lǐng)域：垃圾站、污水廠、泵站、噴漆噴涂廠、化工廠、制藥廠、卷煙廠、香精廠、等。

空氣凈化方面：醫(yī)院、餐飲、賓館、娛樂(lè)場(chǎng)所、等公共場(chǎng)所及辦公室、家庭、實(shí)驗(yàn)室等。

工業(yè)廢氣在風(fēng)機(jī)作用下經(jīng)過(guò)綠河UV光解除臭設(shè)備的高效光解氧化處理模塊后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV 紫外線光束及臭氧對(duì)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使廢氣中的惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。具體地來(lái)說(shuō)就是，綠河UV光解除臭設(shè)備中的高效光解氧化處理模塊利用高能UV 紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有快速清除效果。

UV光解除臭設(shè)備應(yīng)用范圍：

1、行業(yè)應(yīng)用：石油化工、輕工、塑料、印刷、涂料等行業(yè)排放的常見(jiàn)污染物；

2、廢氣類(lèi)型應(yīng)用：烴類(lèi)化合物（芳烴、烷烴、烯烴）、苯類(lèi)、酮類(lèi)、酚類(lèi)、醇類(lèi)、醚類(lèi)、烷類(lèi)等化合物；