硅片拋光機：1.本系列拋光機的吸附盤由四臺單獨的電機驅(qū)動、速度與壓力可調(diào)。 2.控制系統(tǒng)中采用PLC彩色終端等先進(jìn)技術(shù)，系統(tǒng)的響應(yīng)速度更快、更精確，并具有遠(yuǎn)程監(jiān)控，遠(yuǎn)程維護(hù)的功能； 3.本系列拋光機運行平穩(wěn)，拋光后的產(chǎn)品厚度公差可控制在正負(fù)0.002mm范圍內(nèi)，粗糙度可達(dá)到0.0005mm。 http://www.weiada.com http://www.weianda.com http://www.weanda.com http://www.jianxingdianchi.com